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學(xué)院吉俊懿教授團(tuán)隊(duì)在高穩(wěn)定電氧化甲醇協(xié)同制氫領(lǐng)域取得重要進(jìn)展

發(fā)布時(shí)間 :2024年11月14日      閱讀量:

堿性甲醇-水共電解體系能夠同步實(shí)現(xiàn)低能耗制氫和甲酸合成,為高效制氫協(xié)同高值化學(xué)品副產(chǎn)提供了極具前景的途徑。但甲醇氧化反應(yīng)的穩(wěn)定性和選擇性隨電流密度的增大而降低,阻礙了甲醇-水共電解體系的實(shí)際工業(yè)應(yīng)用前景。其中,反應(yīng)前驅(qū)體甲醇和OH-在活性物質(zhì)表面的吸附動(dòng)力學(xué)與吸附容量對(duì)大電流密度下甲醇氧化性能的影響較大。近日,我校beat365吉俊懿教授團(tuán)隊(duì)報(bào)道了一種具有優(yōu)異甲醇氧化活性的CeF3@Ni3N復(fù)合材料,通過(guò)CeF3調(diào)節(jié)Ni3N的電子分布,增強(qiáng)甲醇和OH-在活性位表面的吸附動(dòng)力學(xué)與吸附容量,在大電流密度下維持甲醇氧化反應(yīng)良好的法拉第效率和穩(wěn)定性。相關(guān)研究成果“Enhanced Adsorption Kinetics and Capacity of a Stable CeF3@Ni3N Heterostructure for Methanol Electro-Reforming Coupled with Hydrogen Production”發(fā)表在《Angewandte Chemie International Edition》上,四川大學(xué)博士生鄧寬為第一作者,吉俊懿教授為通訊作者,四川大學(xué)beat365為第一單位。

研究通過(guò)Ce元素的摻雜避免了氮化過(guò)程陣列結(jié)構(gòu)的坍塌,而F元素在反應(yīng)過(guò)程中從Ni(OH)2晶格內(nèi)部緩慢遷出并生成CeF3,構(gòu)筑了均勻分布的納米級(jí)晶粒與豐富的Ni3N和CeF3異質(zhì)界面。通過(guò)系列測(cè)試發(fā)現(xiàn),與Ni3N催化劑相比,CeF3@Ni3N催化劑表面Ni3+OOH的生成速率更加迅速,并且對(duì)甲醇和OH-具有更快的吸附動(dòng)力學(xué)和吸附容量,能夠在表面反應(yīng)消耗后實(shí)現(xiàn)快速補(bǔ)充,從而降低甲醇氧化反應(yīng)的起始過(guò)電位、加速反應(yīng)動(dòng)力學(xué),為大電流密度下甲醇氧化的高穩(wěn)定性和高選擇性提供了保障。因此,在100~500 mA cm-2的電流密度下,CeF3@Ni3N催化劑具有優(yōu)良的法拉第效率和穩(wěn)定性。在500 mA cm-2的電流密度下循環(huán)72 h(每12 h更換電解液),能夠維持較高的法拉第效率(>90%)。與目前報(bào)道的甲醇氧化催化劑相比,具有更大的電流密度與更加優(yōu)異的穩(wěn)定性。由于CeF3@Ni3N電極具有優(yōu)異的甲醇氧化和析氫性能,以CeF3@Ni3N催化劑為陰、陽(yáng)極組裝了流動(dòng)型甲醇-水共電解裝置,能在工業(yè)生產(chǎn)要求的電流密度(300 mA cm-2)下長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行,實(shí)現(xiàn)同步高效制氫和甲酸合成的目標(biāo)。該工作為甲醇氧化耦合電解水制氫的工業(yè)化應(yīng)用提供了有價(jià)值的探索與實(shí)踐。

圖1 (a) CeF3@Ni3N/CC和Ni3N/CC復(fù)合材料合成示意圖;(b) F-Ni(OH)2/CC, (c) NiCeF/CC前驅(qū)體和(d) CeF3@Ni3N/CC的SEM圖;CeF3@Ni3N的TEM與晶格參數(shù)圖。

圖2 (a) CeF3@Ni3N/CC和(b) Ni3N/CC在MOR中的原位Bode圖;(c) OER及MOR中不同電位下的電荷轉(zhuǎn)移阻力;(d) CeF3@Ni3N/CC在不同電位下OER及MOR的原位拉曼光譜;(e) CeF3@Ni3N/CC在1.4 V (vs. RHE),開(kāi)路電壓及1.0 V下的周期電化學(xué)測(cè)量;(f)在1 M KOH電解液中注入甲醇前后的開(kāi)路電壓;(g)在0.1 M KOH和純水中的Zeta電位;(h) 1 M KOH中的CV曲線;(i) CeF3@Ni3N/CC表面甲醇和OH-的吸附-反應(yīng)過(guò)程示意圖。

圖3 (a) CeF3@Ni3N/CC作為雙功能陰陽(yáng)極在無(wú)膜電解槽中的組裝示意圖;(b) CeF3@Ni3N/CC||CeF3@Ni3N/CC和Ni3N/CC||Ni3N/CC在MOR/OER耦合制氫中的LSV曲線;(c)用MOR替代OER后不同電流密度下施加電壓的降低率;(d) 100和300 mA cm-2下MOR||HER耦合反應(yīng)的穩(wěn)定性及(e)對(duì)應(yīng)的長(zhǎng)循環(huán)法拉第效率;(f)流動(dòng)電解槽中300 mA cm-2下MOR||HER穩(wěn)定性。




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